水處理設備在硅單晶微電子工業的應用

硅單晶是一種可用于制作集成電路和半導體器件等的半導體材料，屬于非金屬元素，對于探測器級硅單晶、電路級硅單晶等電力電子器件及大功率晶體管都是可將會用到硅單晶，在進行微電子工業的加工過程中需要用到一定要求的純水，如工業純水的水質要求沒有達到要求則會對產品的使用造成一定的影響，下面介紹關于硅單晶微電子工業用的水處理設備。

硅單晶微電子純水,電子純水處理設備

　　該純水設備可根根電子工業對于純水的水質要求進行劃分，純水水質電阻率細分到0.5MΩ.cm、2MΩ.cm、10MΩ.cm、15MΩ.cm、18MΩ.cm、18.2MΩ.cm等之間。

　　電子純水處理設備由預處理系統、離子交換混床(EDI電除鹽系統)系統、RO反滲透主機系統等結構構成主要設備，其中預處理系統可根據當地的原水水質選擇采用鈉離子軟化器、精密過濾器、多介質過濾器、活性碳過濾器等工藝。

　　水處理設備根據出水水質分為離子交換樹脂、反滲透水處理設備與離子交換設備結合、反滲透設備與電去離子(EDI)設備結合三種主要的水處理工藝。

　　硅單晶微電子離子交換技術工藝流程：進水原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設備→混床(復床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水對象。

　　采用反滲透技術作為預處理工藝，后續再采用離子交換技術，優勢在于離子設備再生周期相對要長而且在耗費的酸堿方面比單純采用離子樹脂的方式要少很多。

　　以上是對于微電子工業用的水處理設備采用的水處理工藝中的一種，如想了解其他的水處理工藝流程可到瑞吉爾進行詳情的方案查詢。